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MLCC行(xing)業砂磨(mo)機**應用集中在5個關鍵工(gong)藝點,覆(fu)蓋鈦(tai)酸鋇介(jie)電(dian)粉體(ti)、銀/銅(tong)/鎳(nie)等(deng)內電(dian)極漿料,,市場(chang)空間隨MLCC小型化(hua)、高容化(hua)持續擴張。RUCCA砂磨(mo)機主要(yao)解決(jue)的**是解團聚(ju)+勻粒徑(jing)+穩定分散,*終(zhong)保障MLCC導(dao)電(dian)可(ke)靠(kao)、超薄化(hua)、高良率。
一、RUCCA砂磨機在(zai)MLCC的5大應用點
1. 鈦酸鋇基介電粉體研磨(**):固相法/水熱法合成后需納米級細化,控制D50≤100nm、粒徑分布跨度<1.5,保障介電層均勻與介電常數穩定。
2. 銀(yin)粉內電極(ji)漿料分散:適配超薄(bo)電極(ji)(≤1μm),確保銀(yin)粉分散均勻、無團聚,提升印刷精(jing)度與(yu)導電性,減少開(kai)路風險。
3. 鎳(nie)粉(fen)內(nei)電極漿(jiang)料制備:高容MLCC常用,砂磨機(ji)分散鎳(nie)粉(fen)并與鈦酸鋇復合(he),控制粒徑與分散性,避免疊層(ceng)開裂、提升容量一致性。
4. 銅粉(fen)電極/粘結相研磨:用于中(zhong)低壓MLCC,需(xu)低氧(yang)環境研磨,防止氧(yang)化,保證(zheng)電極導電性(xing)與可靠(kao)性(xing)。
5. 復合粉(fen)體/添加劑(ji)混(hun)合:如鈦酸鋇與稀土摻雜(za)劑(ji)、燒結助劑(ji)(MgO/CaO)的(de)均勻分(fen)散,提升燒結致密(mi)性(xing)與介電穩定性(xing)。
金屬粉(銀(yin)/鎳/銅(tong))天生(sheng)易團(tuan)聚,普(pu)通(tong)攪拌散(san)不(bu)開,RUCCA砂磨(mo)機(ji)強(qiang)剪切力(li)是**能(neng)高效解聚的(de)設備,MLCC電極越做越薄(bo)(現在≤1μm),對粉體粒徑要求極高,RUCCA砂磨(mo)機(ji)能(neng)**磨(mo)到納(na)米(mi)級,其他設備達不(bu)到精度,電極漿料(liao)分散(san)不(bu)均會導致MLCC開路、短路,砂磨(mo)機(ji)能(neng)保證粉體均勻懸(xuan)浮,是后續(xu)印刷、燒結(jie)合格(ge)的(de)前提。
二、**痛點與對應(ying)解決(jue)方案
1.針對鈦(tai)酸鋇介電(dian)粉體研磨 :
**痛點是:納(na)米(mi)顆粒(li)團聚(ju)、粒(li)徑分布寬、溫升致晶(jing)型轉(zhuan)變(bian)
對應解決方案: 0.1-0.3mm Y-TZP氧化鋯珠;外循環冷卻控溫;在線激光粒度閉環控制 D50≤100nm,跨度<1.2;控溫<40℃;雜質含量≤50ppm;節能10-20% 。
2.銀(yin)粉內(nei)電極漿料分散 :
**痛點是(shi):團(tuan)聚(ju)影響(xiang)印刷精度、導(dao)電性不均
對應解決方案:適配30-50%固含量;磷酸酯類分散劑配伍工藝 粒徑分布跨度<1.5;印刷層厚度≤1μm;解聚率>90%
3. 鎳粉(fen)內電極漿料制備:
**痛點(dian)是:氧化變質(zhi)、疊(die)層開(kai)裂、容(rong)量一致性差
對應解決方案:氮氣保護封閉研磨系統;碳化鎢棒銷+氧化鋯腔(qiang)體(ti);PID溫控系統 氧含量≤0.5%;D50波動±5nm;燒(shao)結致密度提升8%
4. 銅粉電極研磨:**痛(tong)點是:易氧化、金屬(shu)雜質引入
對應解決方案:低氧環境研磨(氧含量<1%);陶瓷疊片式分離器;316L不銹鋼全封閉流道 氧化率≤0.3%;Fe/Ni雜質≤30ppm;粒徑均勻性≥92%
5. 復合(he)粉體/添(tian)加劑混(hun)合(he):
**痛點(dian)是:摻雜不均、燒結致密(mi)性差
對應(ying)解決方案:雙動力進料+湍流分散結構;適配(pei)0.3-0.8mm研磨珠;模塊化腔體設計 混合均勻度≥95%;燒結收縮(suo)率波動±0.5%;產能50-2000L/h

RUCCA砂磨機在電極材料(liao)里的(de)3個(ge)**作用(yong)
1. 解聚(ju)(ju):打(da)破(po)銀/鎳(nie)/銅粉(fen)的(de)軟/硬團聚(ju)(ju),把團聚(ju)(ju)體拆成單顆粒,避免漿料里有(you)大顆粒堵網、印刷露底(di)
2. 勻粒徑:將(jiang)粉體磨至目(mu)標粒徑并控(kong)制分布窄,保證電極厚(hou)度均勻,不會局部過厚(hou)/過薄導(dao)致燒結開裂
3. 穩(wen)定分(fen)散:讓(rang)金屬粉均勻分(fen)散在(zai)有機載體中(zhong),形成穩(wen)定漿料(liao),防(fang)止儲存分(fen)層,保(bao)障(zhang)批量生產一致性(xing)
三、針對(dui)儒佳的(de)設備選(xuan)用機型

儒(ru)佳(jia)的主要針(zhen)對新材料(liao)的機型N系(xi)列,UM系(xi)列,DUM系(xi)列:
? N系列(臥式納米砂磨機):鈦酸(suan)鋇(bei)粉(fen)體量(liang)(liang)產(chan)主力,適配銀(yin)粉(fen)漿料(liao)規模化(hua)生產(chan),流量(liang)(liang)大(da)、控溫強,適配0.3-1.0mm研(yan)磨珠,D90≤300nm、*大(da)線(xian)(xian)速度12M/s,適合(he)大(da)產(chan)能線(xian)(xian)。
? UM系列(立(li)式無篩網(wang)納米砂磨機):研(yan)發/中試**,適配鎳(nie)/銅(tong)粉防氧化小批(pi)量研(yan)磨;可投0.03-0.3mm超(chao)微珠,無網(wang)離心出料,D90≤100nm,適合小批(pi)量、多品種切換。
? DUM系列(立式雙動力納米砂磨機):超薄電極漿料量產,強化UM的能量密度與穩定性;碳化鎢/陶瓷耐磨組件,適配0.05mm以下微珠,氧含量<0.5%,適配高固含(40-60%)鎳/
