MLCC行(xing)業砂磨(mo)機**應用集中在5個關鍵工(gong)藝點，覆(fu)蓋鈦(tai)酸鋇介(jie)電(dian)粉體(ti)、銀/銅(tong)/鎳(nie)等(deng)內電(dian)極漿料，，市場(chang)空間隨MLCC小型化(hua)、高容化(hua)持續擴張。RUCCA砂磨(mo)機主要(yao)解決(jue)的**是解團聚(ju)+勻粒徑(jing)+穩定分散，*終(zhong)保障MLCC導(dao)電(dian)可(ke)靠(kao)、超薄化(hua)、高良率。

一、RUCCA砂磨機在(zai)MLCC的5大應用點

1. 鈦酸鋇基介電粉體研磨（**）：固相法/水熱法合成后需納米級細化，控制D50≤100nm、粒徑分布跨度<1.5，保障介電層均勻與介電常數穩定。

2. 銀(yin)粉內電極(ji)漿料分散：適配超薄(bo)電極(ji)（≤1μm），確保銀(yin)粉分散均勻、無團聚，提升印刷精(jing)度與(yu)導電性，減少開(kai)路風險。

3. 鎳(nie)粉(fen)內(nei)電極漿(jiang)料制備：高容MLCC常用，砂磨機(ji)分散鎳(nie)粉(fen)并與鈦酸鋇復合(he)，控制粒徑與分散性，避免疊層(ceng)開裂、提升容量一致性。

4. 銅粉(fen)電極/粘結相研磨：用于中(zhong)低壓MLCC，需(xu)低氧(yang)環境研磨，防止氧(yang)化，保證(zheng)電極導電性(xing)與可靠(kao)性(xing)。

5. 復合粉(fen)體/添加劑(ji)混(hun)合：如鈦酸鋇與稀土摻雜(za)劑(ji)、燒結助劑(ji)（MgO/CaO）的(de)均勻分(fen)散，提升燒結致密(mi)性(xing)與介電穩定性(xing)。

金屬粉（銀(yin)/鎳/銅(tong)）天生(sheng)易團(tuan)聚，普(pu)通(tong)攪拌散(san)不(bu)開，RUCCA砂磨(mo)機(ji)強(qiang)剪切力(li)是**能(neng)高效解聚的(de)設備，MLCC電極越做越薄(bo)（現在≤1μm），對粉體粒徑要求極高，RUCCA砂磨(mo)機(ji)能(neng)**磨(mo)到納(na)米(mi)級，其他設備達不(bu)到精度，電極漿料(liao)分散(san)不(bu)均會導致MLCC開路、短路，砂磨(mo)機(ji)能(neng)保證粉體均勻懸(xuan)浮，是后續(xu)印刷、燒結(jie)合格(ge)的(de)前提。

二、**痛點與對應(ying)解決(jue)方案

1.針對鈦(tai)酸鋇介電(dian)粉體研磨 ：

**痛點是：納(na)米(mi)顆粒(li)團聚(ju)、粒(li)徑分布寬、溫升致晶(jing)型轉(zhuan)變(bian)

對應解決方案： 0.1-0.3mm Y-TZP氧化鋯珠；外循環冷卻控溫；在線激光粒度閉環控制 D50≤100nm，跨度<1.2；控溫<40℃；雜質含量≤50ppm；節能10-20% 。

2.銀(yin)粉內(nei)電極漿料分散 ：

**痛點是(shi)：團(tuan)聚(ju)影響(xiang)印刷精度、導(dao)電性不均

對應解決方案：適配30-50%固含量；磷酸酯類分散劑配伍工藝 粒徑分布跨度<1.5；印刷層厚度≤1μm；解聚率>90%

3. 鎳粉(fen)內電極漿料制備：

**痛點(dian)是：氧化變質(zhi)、疊(die)層開(kai)裂、容(rong)量一致性差

對應解決方案：氮氣保護封閉研磨系統；碳化鎢棒銷+氧化鋯腔(qiang)體(ti)；PID溫控系統 氧含量≤0.5%；D50波動±5nm；燒(shao)結致密度提升8%

4. 銅粉電極研磨：**痛(tong)點是：易氧化、金屬(shu)雜質引入

對應解決方案：低氧環境研磨（氧含量<1%）；陶瓷疊片式分離器；316L不銹鋼全封閉流道 氧化率≤0.3%；Fe/Ni雜質≤30ppm；粒徑均勻性≥92%

5. 復合(he)粉體/添(tian)加劑混(hun)合(he)：

**痛點(dian)是：摻雜不均、燒結致密(mi)性差

對應(ying)解決方案：雙動力進料+湍流分散結構；適配(pei)0.3-0.8mm研磨珠；模塊化腔體設計 混合均勻度≥95%；燒結收縮(suo)率波動±0.5%；產能50-2000L/h

RUCCA砂磨機在電極材料(liao)里的(de)3個(ge)**作用(yong)

1. 解聚(ju)(ju)：打(da)破(po)銀/鎳(nie)/銅粉(fen)的(de)軟/硬團聚(ju)(ju)，把團聚(ju)(ju)體拆成單顆粒，避免漿料里有(you)大顆粒堵網、印刷露底(di)

2. 勻粒徑：將(jiang)粉體磨至目(mu)標粒徑并控(kong)制分布窄，保證電極厚(hou)度均勻，不會局部過厚(hou)/過薄導(dao)致燒結開裂

3. 穩(wen)定分(fen)散：讓(rang)金屬粉均勻分(fen)散在(zai)有機載體中(zhong)，形成穩(wen)定漿料(liao)，防(fang)止儲存分(fen)層，保(bao)障(zhang)批量生產一致性(xing)

三、針對(dui)儒佳的(de)設備選(xuan)用機型

儒(ru)佳(jia)的主要針(zhen)對新材料(liao)的機型N系(xi)列，UM系(xi)列,DUM系(xi)列：

? N系列（臥式納米砂磨機）：鈦酸(suan)鋇(bei)粉(fen)體量(liang)(liang)產(chan)主力，適配銀(yin)粉(fen)漿料(liao)規模化(hua)生產(chan)，流量(liang)(liang)大(da)、控溫強，適配0.3-1.0mm研(yan)磨珠，D90≤300nm、*大(da)線(xian)(xian)速度12M/s，適合(he)大(da)產(chan)能線(xian)(xian)。

? UM系列（立(li)式無篩網(wang)納米砂磨機）：研(yan)發/中試**，適配鎳(nie)/銅(tong)粉防氧化小批(pi)量研(yan)磨；可投0.03-0.3mm超(chao)微珠，無網(wang)離心出料，D90≤100nm，適合小批(pi)量、多品種切換。

? DUM系列（立式雙動力納米砂磨機）：超薄電極漿料量產，強化UM的能量密度與穩定性；碳化鎢/陶瓷耐磨組件，適配0.05mm以下微珠，氧含量<0.5%，適配高固含（40-60%）鎳/